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HN—998全光亮化学镀镍工艺
HN--998是新型的无电解化学镀镍—磷合金工艺。该工艺具有极佳的稳定性。镀层含磷量7±2%(wt%),最高沉积率可达27微米/小时。HN--998所提供的是色调赏心悦目的光亮镀层,并具有优良的防腐性能,可广泛用于计算机配件,五金装璜饰品的挂镀,滚镀。
一. 镀层的物理特性
磷含量(wt%) 5—9
镀层密度(g/cm3) 7.8—8.0 熔点( ℃ ):880—960
硬度(镀态): 550—720HV
热处理(400℃ 1小时)后: 900—1000HV
二. 特点
1.特快的沉积速率:18—27微米/小时,前六个周期平均镀速可达19微米/小时以上。
2.较稳定的磷含量,镀层具有优良的防腐和延展性能。
3.极佳的稳定性,最长的使用寿命可超过10个周期。
4.镀液容易操作。
5.较宽的镀液负载范围0.5—3.4dm2 /L.
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